报告题目(中文)：先进光刻胶材料化学简介

报告内容简介：简述先进光刻胶材料（用于芯片制造）的发展历史，重点介绍先进光刻胶的材料化学以及企业研发与高校研发的区别。

报告人姓名：毛国平

报告人简介(中文)：毛国平博士，现任善仁（浙江）新材料科技有限公司首席技术官CTO，从事高端导电胶的开发与产业化。 97年获康奈尔大学博士学位。效力3M公司近20年，主要从事电子材料方面的研发和产品开发，在双光子材料、微复制、镶嵌式电容、燃料电池催化剂、及LCP软板等领域都有一定的成果；获授权美国专利20项；共发表论文23篇,他引3千次。2016年秋回国从事先进光刻胶的开发与产业化（申请中国专利15项）。2017年入围国家特聘专家（第13批企业创新类）。

报告人单位(中文)：善仁（浙江）新材料科技有限公司

报告时间：2020-12-25 14:10

报告地点：宝山校区J101阶梯教室

主办单位：上海大学材料学院

联系人：高彦峰